随着光刻机控制系统开发的不断推进，天宇科技迎来了新的挑战与机遇。这一天，公司上下弥漫着紧张而专注的氛围，每个人都在为了实现技术突破而努力奋斗。
清晨的阳光透过窗户洒在林宇的办公室里，他早早地来到公司，坐在办公桌前，仔细审阅着关于光刻机控制系统的最新报告。报告中详细记录了前一阶段所取得的成果以及目前仍存在的问题，林宇的眉头微微皱起，思考着下一步的行动计划。
林宇决定召集专家教授团队、姜老的光刻机研发团队以及技术部的成员再次开会，共同商讨如何进一步优化控制系统以及进行全面的模拟测试。会议室里，众人齐聚一堂，气氛严肃而认真。
林宇首先发言：“各位同事，目前我们在光刻机控制系统的开发上已经取得了一定的进展，但我们不能满足于此。现在我们需要集中精力进行系
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